Schoon ontwerpen, produceren, assembleren en verpakken

ASML’s new standards for cleanliness

Ultra clean vacuum components for the semiconductor industry

The demand for precision cleaned semiconductor components has been growing fast in the past 5 years. Furthermore, allowed particle emission of vacuum valves had to be reduced strongly to comply with requirement of sub 10 nm and introduction of EUV technology. Due to our strong focus on the semiconductor markets VAT has invested heavily into efficient precision cleaning technology as well a vacuum particle lab, which is unique for a component supplier. VAT has realized early that to fabricate and deliver a clean part, the complete manufacturing process and supply chain has to be understood and monitored. Automation and in-line process control are key elements to deliver a continuous quality to our customers. In our presentation, we will give you insights in VAT High Purity and Zero Particle program. We will explain the importance of the selection of materials, machining and cleaning equipment, packaging, automation and process control.
Christian Schelle, Cleaning specialist Switzerland, VAT Vakuumventile AG

Part cleanliness for application in lithography systems and how to achieve it within the complete supply chain
In the context of manufacturing complex optics for semiconductor lithography systems great importance is attached to highly specialized EUV cleaning processes including the installation of specific machinery and specialized cleanliness processes. A key function for the successful realization was ascribed to standardization of the related processes and metrology procedures throughout the complete supply chain. This presentation puts is focus on organic contamination and the presence of critical elements on atomic level and their influence on optical lifetime in the EUV systems. The jointly taken effort of ASML and CZ SMT covers the alignment of guidelines which should reach down to the n-th tier of the supply chain, over the common release of international positioned cleanliness service providers.
Robert Meier, Head of Cleaning Process Technology, ZEISS Semiconductor Manufacturing Technology

Een cleanroom concept voor flexibiliteit en betere inzet van kapitaal
Een cleanroom wordt meestal gebouwd als vaste inrichting in een gebouw. Maar wat als in de loop van de tijd de capaciteit moet meegroeien, als je moet verhuizen, de kwalificatie van de cleanroom hoger moet, of de conditionering van de lucht moet worden aangepast?
Het flex cleanroom concept geeft antwoorden op deze vragen. In een presentatie van Interflow samen met ASML krijgt u uitleg over het concept en inzicht in de manier waarop ASML flexibiliteit creëert en een nog betere inzet van kapitaal.
Alex Jansen, Algemeen Directeur, Interflow
Kees de Wit, Principal Architect Clean Technology, ASML

Technical cleanliness inspection using an innovative optical system for particle detection.
Enhancing component and surface cleaning tasks across all sectors like: Electronics, Aerospace, Automotive and special for his event semiconductor industry.
We will show you how to measure partical contamination of component surface. And why it is important to detect particals.
An innovative illumination system enables the fast separation of metallic and non-matallic particles in cleanliness inspection.
The complete workflow from particle extraction to their detection, enumeration and classification is described based on industry standards.
Peter Büscher, Application Specialist, Olympus Nederland

Luigi Raspolini, Application and Product Specialist Electron Microscopy, Thermo Fisher Scientific

Moleculaire oppervlaktereinheid van Producten
Er zijn vele werkgebieden waar moleculaire vervuiling van een oppervlak een probleem is voor het goed functioneren van een systeem. Het is van belang om tijdens het ontwerpstadium van een product of een systeem, de oppervlaktereinheidseisen realistisch op te stellen. Dit om te voorkomen dat het product óf niet schoon genoeg is óf dat er overbodige reinigingskosten worden gemaakt. In de presentatie zal een praktijkvoorbeeld worden gebruikt om alle aspecten van schoon produceren te tonen; van het opzetten van een vervuilingsbudget tot het valideren van het eindproduct.
Freek Molkenboer, Systems Engineer, TNO

High Precision Cleaning
Hein Verschuuren, Managing Director, Unicorn industrial cleaning solutions

Uw dagvoorzitter van het CLEAN event 2020
Philip van Beek, Bestuurslid, VCCN